DTCO и ИИ: как Samsung преодолевают пределы кремния

Кремний почти достиг предела возможностей для производства полупроводников. С каждым переходом на более продвинутую технологическую норму улучшения становятся всё менее заметными, поэтому производители ищут альтернативные пути повышения характеристик. Одним из таких подходов является оптимизация проектирования и интеграции процессов (DTCO) – дополнительная работа над уже существующими техпроцессами, позволяющая извлечь максимум: повысить производительность, снизить энергопотребление и увеличить плотность транзисторов. Вице‑президент литейного подразделения Samsung указал, что DTCO уже рассматривается многими компаниями как ключевой фактор улучшения полупроводников. Для 7‑нм техпроцесса он даёт около 10 % общего прироста; при 3‑нм и ниже эффект может достигать 50 %, тогда как переход на новую норму даёт лишь 10‑15 %. Кроме того, Samsung и другие фирмы активно применяют искусственный интеллект для более эффективного размещения транзисторов и блоков, улучшая характеристики конечного продукта и распределение тепла на кристалле.