SK hynix инвестирует $7.9 млрд в EUV-литографию для производства памяти

Микросхемы памяти стали не только дорогими, но и затратными в производстве. Современные решения используют 10-нм технологические нормы с применением EUV-литографии, требующей очень дорогостоящего оборудования, производимого исключительно голландской компанией ASML.

На этой неделе SK hynix объявила о планах потратить $7.9 млрд на передовые литографические сканеры с EUV-литографией для создания микросхем памяти DRAM и стеков памяти HBM. Это рекордная сумма среди всех заказов, доступных в открытых источниках. Компания планирует приобрести около 30 новых машин до декабря 2027 года, что на 4 больше, чем предполагалось ранее.

Эти инструменты будут использованы на двух передовых производственных линиях: M15X в Чхонджу и Yongin Semiconductor. Оба завода ориентированы на память следующего поколения, но первый специализируется на стеках HBM, а второй — на более простой DRAM.